Bits&Chips

Imec ontwikkelt volgende generatie euv-pellicle

17 mei 2017 

Imec heeft een pellicle ontwikkeld dat geschikt is voor de hogere bronvermogens die over enkele jaren zullen worden gebruikt. Dat heeft vicepresident Semiconductors Technology and Systems An Steegen van Imec bekendgemaakt op het Imec Technology Forum, deze week in Antwerpen.

Pellicles zijn zeer dunne transparante vliesjes die het masker beschermen tegen stofjes - zeker bij euv-lithografie geen overbodige luxe. Imecs versie is gebaseerd op koolstofnanobuizen, gecoat met een metaal. Het laat meer dan 97 procent van het euv-licht door, is hitte- en waterstofbestendig en honderd keer sterker dan staal.

ASML ontwikkelde met partners al een op silicium gebaseerd pellicle. Deze laat minder licht door (88 procent) maar hoeft volgens Steegen niet direct de prullenbak in: de koolstofnanobuisversie is nog niet productierijp. Hij is bedoeld voor vermogens voorbij de 250 watt, het wattage dat voor de eerste productieseries worden beoogd.

Abonneer direct op onze nieuwsbrief

abonneren