Metrologietool voor EUV-maskerinspectie in ontwikkeling

9 juli 2010

Sematech en Carl Zeiss slaan de handen ineen om een gat in de EUV-infrastructuur te dichten: maskerinspectie. De partners gaan een machine ontwikkelen die EUV-maskers voor 22-nanometerchips (half-pitch) controleert. Een productiewaardige tool, uitbreidbaar naar 16 nanometer HP, moet in 2014 gereed zijn – op tijd om halfgeleiderfabrikanten te bedienen die al vroeg de EUV-sprong wagen.

Naarmate chipstructuren kleiner worden, neemt de kans toe dat afbeelding van vuiltjes en defecten op het fotomasker tot fatale verstoringen leidt. Bij EUV-lithografie voor 22-nanometerchips en kleiner zijn de eisen aan de properheid en kwaliteit van maskers extreem: ze moeten zo goed als perfect zijn. Dat is al moeilijk genoeg, maar zonder snelle en efficiënte methode om defecten te meten, is het ondoenlijk. Zonder maskerinspectietool geen EUV-chipproductie.

Vorig jaar heeft Sematech het voortouw genomen in het maskerprobleem, maar al langer boeken Sematech-onderzoekers gestage vooruitgang met de reductie van het aantal defecten per oppervlakte-eenheid.

Paul van Gerven

Terug naar overzicht