Amsterdammers onderzoeken ultrageluid om EUV-maskers te reinigen

30 mei 2011

Fysicus Mark Golden en collega’s van de Universiteit van Amsterdam gaan onderzoeken of ultrasoon geluid geschikt is om EUV-maskers schoon te maken. Hun projectvoorstel daartoe heeft het groene licht gekregen. Onderzoeksfinancier Fom draagt 53 duizend euro bij, ASML 45 duizend euro en de UVA 25 duizend euro.

EUV-lithografie is veel gevoeliger voor defecten en nanoscopische vuiltjes dan de huidige generatie optische lithografie. Niet alleen worden deeltjes gemakkelijker afgebeeld door de kleinere golflengte, ook is een beschermend hoesje om het masker uit den boze, omdat EUV-straling erg goed wordt geabsorbeerd door vrijwel alle materialen. Een pellicle zou dan ook onacceptabel verlies van stralingsintensiteit met zich meebrengen.

Maar de maskers moeten natuurlijk wel schoon de machine in en, alle voorzorgsmaatregelen ten spijt, na verloop van tijd weer even worden opgepoetst. Hoe sneller dat gaat, hoe beter, want up-time is alles in de chipmakerij. Dit probleem is al jaren te vinden in de zorgenlijstjes van halfgeleiderfabrikanten die EUV-litho nodig hebben om hun krimpslagen voort te zetten. En als ASML’s klanten zich zorgen maken, dan maakt ASML zich kennelijk ook zorgen, want strikt genomen zit het Veldhovense bedrijf natuurlijk niet in de maskerbusiness.

De UvA-onderzoekers hopen dat ultrageluid een passende oplossing biedt. In de industrie is dit geen ongebruikelijke reinigingsmethode. Ook de juwelier of opticien heeft wel vaak een ultrasoonbad staan. De vuiltjes die daarmee worden verwijderd, zijn echter een stuk groter dan die van EUV-maskers moeten worden geboend. Binnen een half jaar moet duidelijk zijn of de methode ook op nanoschaal werkt.

Paul van Gerven

Terug naar overzicht